超纯水设备在电子与半导体行业有诸多应用实例，具体如下：

1. 半导体芯片制造：

清洗环节：在半导体芯片制造过程中，晶圆表面的清洗是非常关键的步骤。超纯水可以有效去除晶圆表面的微小颗粒、金属离子和有机物等杂质，防止这些杂质对芯片的性能和质量产生影响。

蚀刻环节：蚀刻是半导体芯片制造中的重要工艺，用于在晶圆上刻蚀出电路图案。超纯水作为蚀刻液的稀释剂或清洗剂，能够保证蚀刻过程的精度和稳定性，避免杂质对蚀刻效果的干扰。

化学机械抛光（CMP）后的清洗：CMP 是为了使晶圆表面平坦化的工艺，之后需要用超纯水对晶圆进行彻底清洗，去除抛光过程中产生的磨料颗粒和化学物质残留，以保证晶圆的表面质量和电学性能。

2. 平板显示器制造：

液晶显示器（LCD）制造：在 LCD 的生产过程中，超纯水用于清洗玻璃基板、液晶材料的配制以及光刻胶的清洗等环节。高质量的超纯水可以确保玻璃基板表面的清洁度，提高液晶材料的纯度和稳定性，从而提高 LCD 的显示质量和性能。

有机发光二极管显示器（OLED）制造：OLED 对水的纯度要求极高，超纯水用于 OLED 面板的清洗、有机材料的溶解和稀释等。纯净的水可以避免杂质对有机发光材料的影响，保证 OLED 的发光效率和寿命。

3. 电子元器件制造：

印刷电路板（PCB）制造：在 PCB 的制作过程中，超纯水用于清洗电路板、蚀刻线路以及电镀等环节。在电镀过程中，超纯水可以清洗掉电路板表面的杂质，提高电镀层的附着力和均匀性。

电容器制造：电容器是电子电路中的重要元件，超纯水用于电容器的清洗和电解液的配制。纯净的水可以提高电容器的绝缘性能和稳定性，延长电容器的使用寿命。

4. 半导体材料生产：

硅片生产：硅片是半导体的基础材料，超纯水用于硅片的清洗、切片后的清洗以及抛光后的清洗等。在硅片的生产过程中，任何杂质的存在都可能导致硅片的缺陷，影响半导体器件的性能，因此需要使用超纯水来保证硅片的质量。

半导体材料的提纯：在一些半导体材料的提纯过程中，超纯水作为溶剂或清洗剂，可以去除材料中的杂质，提高材料的纯度。

5. 实验室研发与检测：

电子材料分析：在电子材料的研发和分析过程中，需要使用超纯水来配制各种试剂和溶液，以确保分析结果的准确性。

芯片检测：在芯片的检测过程中，超纯水用于清洗检测设备和芯片样品，避免杂质对检测结果的干扰。